| Firma | Carl Zeiss SMT GmbH |
| Schwerpunkt | Unterstützung bei der Entwicklung der System-Software für eine komplexe Messmaschine für Fotomasken in der Chipherstellung |
| Zeitraum | Q1 bis Q4 2017 |
| Projektbeschreibung | Die AIMS™ EUV Maschine ist eine hochkomplexe Messmaschine, welche seit 2009 von der Firma ZEISS SMT GmbH am Standort Oberkochen entwickelt wird. Die Maschine wird von den weltweit führenden Halbleiterherstellern eingesetzt, um die Herstellung der neuesten Generation von Mikrochips zu ermöglichen. Dazu untersucht sie die für den Fotolithografie-Prozess benötigten Fotomasken mit Hilfe von extrem ultravioletten Licht (EUV) auf Defekte. Da dies aufgrund der kurzen Wellenlänge des EUV Lichts von 13,5 Nanometern nur unter Vakuum und unter Zuhilfenahme verschiedener Gase geschehen kann, benötigt die Maschine eine komplexe Vakuum- und Prozessgasinfrastruktur. Die Aufgaben umfassten: – Entwicklung / Erweiterung der Schnittstelle zwischen der SPS und dem Master-Controller für größere Datenmengen. – Integration eines Datenmanagement-Moduls zur Bereitstellung relevanter Daten im Gesamtsystem. – Erstellen von Ablaufplänen mit Enterprise-Architect |
| Tools und Technologien | C++ VxWorks Real-Time OS WindRiver Workbench Siemens S7 ACCON AGLink Enterprise-Architect (EA) SVN |
