| Firma | Carl Zeiss SMT GmbH |
| Schwerpunkt | Entwicklung einer Windows Applikation zur Simulation einer SPS, welche Teil einer komplexe Prüfmaschine für Fotomasken in der Chipherstellung ist |
| Zeitraum | Q1 bis Q4 2018 |
| Projektbeschreibung | Die AIMS™ EUV Maschine ist eine hochkomplexe Messmaschine, welche seit 2009 von der Firma ZEISS SMT GmbH am Standort Oberkochen entwickelt wird. Die Maschine wird von den weltweit führenden Halbleiterherstellern eingesetzt, um die Herstellung der neuesten Generation von Mikrochips zu ermöglichen. Dazu untersucht sie die für den Fotolithografie-Prozess benötigten Fotomasken mit Hilfe von extrem ultravioletten Licht (EUV) auf Defekte. Da dies aufgrund der kurzen Wellenlänge des EUV Lichts von 13,5 Nanometern nur unter Vakuum und unter Zuhilfenahme verschiedener Gase geschehen kann, benötigt die Maschine eine komplexe Vakuum- und Prozessgasinfrastruktur. Die Steuerung der Maschine erfolgt über eine SPS (Siemens S7). Die Aufgaben: – Entwicklung eines Simulationsprogramms für die SPS der Maschinensteuerung. – Nachbildung der wichtigsten Abläufe, wie z.B. Schrittketten, in der Simulation. – Nachbildung der Kommunikationsabläufe. – Visualisierung wichtiger Statusdaten und Systemparameter. – Möglichkeit zur Manipulation von Daten durch den Anwender für Testzwecke. Die Entwicklung erfolgte mit Visual-C# unter MS Windows |
| Tools und Technologien | Visual C# Siemens S7 |
